DC 電源システム
Photo of DC Pulsing Product Suite
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様々な機能を備えたAEのパルシング製品シリーズは、お客様の多種多様で難しいあらゆるプロセス要件に対応します。柔軟性に富み品揃えが豊富なDCパルシングアクセサリーは、2~100 kHzの固定周波数または可変周波数で10~200 kWの電力を供給することができます。このシリーズの設計は、反応性または導電性DCスパッタリングに適した利点を持つことが実証されています。

利点 特長
  • 多彩な機能
  • 柔軟性に富み品揃えが豊富なDCパルシングアクセサリー 
  • 高出力運転を可能にすることでスループットが向上
  • ターゲットコンタミネーションを低減
  • 10~200 kWの電力を供給
  • 2~100 kHzの固定周波数または可変周波数を実現
  • 卓越したアーク制御により、多くの場合はアークを完全に消去できます。
  • より高いイオンエネルギーの実現
  • 高出力運転 
  • 基板温度の低下
  • ターゲット温度の低下
  • プロセス柔軟性と自由度
  • システム統合が容易
  • デュアルカソード対応 (Astral® 製品)


DCパルス製品 反応性および導電性 DCスパッタリングの実証 済みの技術    English  
Guidelines for Using a PulsarTM DC Pulsing Accessory with an SCR-Fired DC Power Supply (2007) application note
Increasing Production Output with Pulsed-DC Accessories (2006) white paper
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paper
Effects of the Anode Configuration on Substrate Heating in Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paper
Power Supplies for Pulsed Plasma Technologies: State-of-the-Art Outlook (1999) white paper
Enhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen (1999) white paper
Advances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Arcing Problems Encountered During Sputter Deposition of Aluminum (2000) white paper
Pulsed-DC Reactive Sputtering of Dielectrics: Pulsing Parameter Effects, April 2000 magazine reprint
AE Global Services brochure



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