高周波計測装置機器
Photo of GenCal RF instrumentation
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GenCal

GenCal™システムは、プラズマ装置産業で一般に使われている工業用離散周波数で業界随一の計測精度を実現するとともに、AEが研究・開発し受賞歴もあるプラズマインピーダンスセンサーと同じ最新型のハイブリッド電力センサー技術を採用しています。この最適化技術によって、高い高調波成分とノイズを含むプラズマ信号が存在している条件下でも、従来の電力計測装置では不可能だった正確なレートで測定することができます。

利点 特長
  • 電源とチューナーの正常運転をすばやく確認
  • 電源の出力変動警告機能
  • 電源へのセットポイント入力の選択
  • デジタル計測表示、パラメータLED
  • 表示選択スイッチ
  • セットポイント用ノブ


資料ダウンロード

Gencal Instrumentation brochure
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
An Economical Method for Process Control in Pulsed-DC Magnetron Reactive Sputtering, June 2003 magazine reprint
AE Global Services brochure

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