DC 電源システム
Photo of Pinnacle Plus+ DC power system
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Pinnacle® Plus+

使いやすさ、コスト節約効果、優れた柔軟性などの利点を持つアドバンスドエナジー(AE)のPinnacle® Plus+電源装置は、パルスDC電源ソリューションのあらゆる利点をお客様の反応性プロセスで実現します。スタンダードなDC電源技術に製造プロセスで実績のあるパルスDC技術を組み合わせることによって、Pinnacle Plus+電源装置は、複雑で高価なAC電源ソリューションと比べてより高いデポジション率、より優れた再現性、ならびに卓越したフィルム品質を実現します。

利点 特長
  • デポジション率成長速度と歩留まりの向上  
  • 優れたフィルム薄膜の均質性と品質
  • アーク発生による基板損傷の低減
  • コスト削減
  • システム統合が容易
  • 卓越したプロセス柔軟性と自由度
  • 優れた再現性
  • 過渡条件下での高い動作安定性
  • スループットの向上
  • 監視と制御が容易
  • 他に類を見ないシステム柔軟性
  • 小型設計の一体型パッケージ
  • 周波数範囲が調整可能(5~350 kHz)
  • 可変デューティーサイクル(最大45%)
  • 幅広い電圧範囲― シングルタップ、広いインピーダンス範囲
  • 高出力運転
  • 基板加熱が小さい
  • シングル出力(5 kW/10 kWモデル)
  • デュアル出力(5 kWモデル、マルチチャンバ用)
  • 卓越したアーク制御
  • 反応性スパッタリング閉ループ制御

 

資料ダウンロード

Pinnacle® Plus+Pulsed-DC Power Supply brochure
Pinnacle® Plus+ HALO Pulsed-DC Power Supplies
Arc Handling in RF-Superimposed DC Processes (2006) application note
Increasing Production Output with Pulsed-DC Accessories (2006) white paper
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paper
Power Supplies for Pulsed Plasma Technologies: State-of-the-Art Outlook (1999) white paper
Advances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Control of the Reactive Sputtering Process Using Two Reactive Gases, May 2003 magazine reprint
Integrated Process Control for Reactive Sputter Deposition of Dielectric Thin Films, May 2003 magazine reprint
Pulsed-DC Reactive Sputtering of Dielectrics: Pulsing Parameter Effects, April 2000 magazine reprint
Optical Emission Studies for the Characterization of Pulsed Magnetron Sputtering Systems, April 2002 magazine reprint
Parameter Optimization in Pulsed DC Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide, April 2002 magazine reprint
Substrate Response During Dual Bipolar Pulsed Magnetron Sputtering, April 2002 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
A Novel Frequency-Domain Small-Signal Analysis of Resonant Power Converters, July 2004 magazine reprint
Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprint
DC Sputtering Cuts Deposition Times and Costs, November 2002 magazine reprint
Enhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen, March 2001 magazine reprint
AE Global Services brochure

 

詳細情報の問合せ先


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