高周波RF
Paramount® RF 電源供給システム
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Paramount® RF 電源供給システム

3 kW 、13.56 MHz(固定/可変周波数)ハーフラック型Paramount® RF電源装置は、50Ω/非50Ω負荷時(VSWR>3:1)に高精度の測定・制御を実現する強化型の電力・インピーダンス測定システムを搭載しています。最も急激なプラズマインピーダンスの変化もリアルタイムで補正するParamount RF電源装置は、次世代テクノロジーノードに適した移行の迅速化、プロセスステップの短縮、プロセス時間の削減を実現します。周波数同調機能(オプション)によって他のどの市販品よりも速く、ほぼ瞬時(ミリ秒単位)の同調を可能にしながら、そのインピーダンス測定性能はネットワークアナライザーに匹敵します。その結果、これまでになかった高精度、再現性、プロセス制御を実現しました。



利点 特長
  • これまでにない高精度の電源供給システムで薄膜の均質性とスループットを最適化
  • プロセス移行の迅速化により次世代エッチング/成膜・成長プロセスを実現
  • シームレスなプロセス移行を促進
  • 歩留まりの向上
  • ROI(投資収益率)の最大化
  • 出力範囲全体(50Ω/非50Ω負荷時)にわたって非常に精密な電力・インピーダンス測定を実現する次世代の測定システム
  • 準瞬時周波数同調(オプション)
  • 最も広いパルス周波数範囲で使える選択パルスおよびパルス同期化
  • HALO(high accuracy, low output)アーク管理システム(オプション)
  • 小型ハーフラックパッケージ


資料ダウンロード

Paramount® Series: 400 kHz, 2 MHz, 13 MHz, 27 MHz, 40 MHz, 60 MHz
Paramount® Mid-Frequency 400 kHz Series
Paramount® Mid-Frequency 2 MHz Series
Paramount® HF 3 kW Series

Navigator®デジタルマッチング・ネットワーク
     English
Optimized Process Performance Using the Paramount™/Navigator® Power-Delivery/Match Solution (2007) white paper
March 26, 2008 - Advances in Radio Frequency Plasma Power Delivery Systems presentation
Optimising performance by integrating RF power and match technologies, December 2007/January 2008 magazine reprint
RF Power Fundamentals Course data sheet
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper 
RF Measurements and Their Role in the Manufacturing Environment (2000) white paper
Managing Arcs in RF Powered Plasma Processes, December 2006 magazine reprint
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint

 

 

 


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