高周波RF
Photo of HFV Variable Frequency Generator RF power system
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HFV®可変周波数(~2 MHz)電源装置

おもに200/300 mmウェーハ製造プロセス、フラットパネルディスプレイ(FPD)、DVD装置用のプラズマ発生装置として使われるHFV®ジェネレータは、IPVD(イオン物理気相成長)、CVD、エッチングに適したプロセス一貫性を実現します。デジタル合成可変周波数出力とマイクロプロセッサ制御を搭載し、汎用性に富むこの電源装置の出力レベルは5、8 kW、出力周波数範囲は1.765~2.165 MHzです。ファームウェアに常駐する周波数チューニングパラメータは、様々なチャンバ構成やプロセスレシピに応じて、同じ作業を確実に再現するようにカスタマイズすることができます。


利点 特長
  • Run-to-Run(R2R)均質性の向上
  • 汎用性を実現
  • 信頼性の向上
  • プロセス柔軟性の強化
  • 所有コスト(CoO)の低減
  • 周波数チューニングパラメータのカスタマイズ可能
  • 出力周波数範囲: 1.765~ 2.165 MHz
  • 出力レベル:5, 8 kW
  • デジタル合成周波数出力
  • マイクロプロセッサ制御


資料ダウンロード

HFV Variable-Frequency (˜2 MHz) Generators data sheet
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
Advanced Energy RF Calibration Process (2002) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
RF Power Fundamentals Course data sheet
AE Global Services brochure

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