アドバンスドエナジーのE'Wave® バイポーラパルスDC電源装置は、デュアルダマシンプロセスフロー（DDPF）アプリケーションの銅めっき段階（製造環境におけるウェーハへの電気めっき、銅処理プロセスの開発を含む）で表面均質性を改善して添加剤の消費を抑えます。 E'Wave電源装置は最大3個のチャンネルを使うことができます。これらのチャンネルはそれぞれ独立型のバイポーラ電源を持ち、最大15個の電流制御波形または電圧制御波形を作成、記憶、操作することができます。
E'Wave® Bipolar Pulsed DC Power Supply brochure Overview of the Use of Copper Interconnects in the Semiconductor Industry (2004) white paperSignal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paperAdvances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paperIntroducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paperFabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprintPower Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprintAE Global Services brochure
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