様々な機能を備えたAEのパルシング製品シリーズは、お客様の多種多様で難しいあらゆるプロセス要件に対応します。柔軟性に富み品揃えが豊富なDCパルシングアクセサリーは、2～100 kHzの固定周波数または可変周波数で10～200 kWの電力を供給することができます。このシリーズの設計は、反応性または導電性DCスパッタリングに適した利点を持つことが実証されています。
DCパルス製品 反応性および導電性 DCスパッタリングの実証 済みの技術 English Pulsar™ 高電力DCパルス発振アクセサリ English Guidelines for Using a PulsarTM DC Pulsing Accessory with an SCR-Fired DC Power Supply (2007) application noteArc Handling in RF-Superimposed DC Processes (2006)application note Increasing Production Output with Pulsed-DC Accessories (2006) white paperSignal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paperThe Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paperEffects of the Anode Configuration on Substrate Heating in Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paperPower Supplies for Pulsed Plasma Technologies: State-of-the-Art Outlook (1999) white paperEnhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen (1999) white paperAdvances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paperIntroducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paperArcing Problems Encountered During Sputter Deposition of Aluminum (2000) white paperReactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide Coatings, April 2004 magazine reprint Pulsed-DC Reactive Sputtering of Dielectrics: Pulsing Parameter Effects, April 2000 magazine reprintFabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004, magazine reprintPartial Pressure Control in Reactive Sputtering, June 2004 magazine reprint An Economical Method for Process Control in Pulsed-DC Magnetron Reactive Sputtering, June 2003 magazine reprint Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprintAE Global Services brochure
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