低・中周波
Photo of Crystal high power system
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Crystal®

アドバンスドエナジー(AE)のCrystal®電源装置は、歩留まりの向上と不良率の低下を実現し、建築物用、自動車、反射防止、鏡など大面積ガラスのコーティング用途に適しています。180 kWの高出力レベルを可能にしたこの電源装置は、デュアルマグネトロンスパッタリングアプリケーションに適した広範囲の低周波正弦波プロセス出力を実現します。AEのCrystal®電源装置は、プラズマ環境での使用を前提として設計された唯一のAC高出力電源装置です。
 

利点 特長
  • 柔軟性の向上
  • 歩留まりの向上
  • プロセスダウンタイムの低減
  • スループットの向上
  • 広範囲の低周波正弦波プロセス電源
  • 180 kWの高出力電源装置 
  • プラズマ環境用に設計

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Crystal® AC Power Supplies:  60, 120, and 180 kW brochure 
Power for Glass Coating
Understanding and Optimizing Static Deposition Processes for TFT Manufacturing (2008) white paper
Power Supply Topologies (2004) white paper
Performance Considerations of High-Power AC Plasma Deposition Power Supplies (2004) white paper
Design Aspects of Large-Area Coating Supplies (2004) white paper
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paper
Effects of the Anode Configuration on Substrate Heating in Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paper
Enhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen (1999) white paper
Closed-Loop-Controlled, Reactive, Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprint
A New Generation of Power Supplies for Large Area Dual Magnetron Sputtering, April 2002 magazine reprint
AE Global Services brochure

 

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