アドバンスドエナジー（AE）のCrystal®電源装置は、歩留まりの向上と不良率の低下を実現し、建築物用、自動車、反射防止、鏡など大面積ガラスのコーティング用途に適しています。180 kWの高出力レベルを可能にしたこの電源装置は、デュアルマグネトロンスパッタリングアプリケーションに適した広範囲の低周波正弦波プロセス出力を実現します。AEのCrystal®電源装置は、プラズマ環境での使用を前提として設計された唯一のAC高出力電源装置です。
Crystal® AC Power Supplies: 60, 120, and 180 kW brochure Understanding and Optimizing Static Deposition Processes for TFT Manufacturing (2008) white paperPower Supply Topologies (2004) white paperPerformance Considerations of High-Power AC Plasma Deposition Power Supplies (2004) white paperDesign Aspects of Large-Area Coating Supplies (2004) white paperSignal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paperThe Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paperEffects of the Anode Configuration on Substrate Heating in Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paperEnhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen (1999) white paperClosed-Loop-Controlled, Reactive, Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paperIntroducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paperFabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprintPower Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprintA New Generation of Power Supplies for Large Area Dual Magnetron Sputtering, April 2002 magazine reprint AE Global Services brochure
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