高周波RF
The Apex platform delivers superb performance in plasma-based thin film processes for semiconductor, flat panel display, or data storage manufacturing.
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Apex®高周波電源装置

汎用性に優れたApex®ファミリーの高周波発生・電源装置は、チャンバへの設置に適したモジュール式設計で、最新の高周波変換技術を駆使して製品およびプロセスの信頼性を強化します。セミコンダクタ、フラットパネルディスプレイ、もしくはデータストレージの製造に適したプラズマ式薄膜形成プロセスで卓越した性能を発揮します。

利点 特長
  • 出力電力密度の向上
  • プロセス柔軟性の向上
  • 歩留まりの向上
  • 所有コスト(CoO)の低減
  • プロセスツール統合が容易
  • 柔軟性のある通信対応
  • 洗練されたデザイン
  • オンボードチャンバマウント、オンツールフレームマウント、ラックマウント、シューボックスの各種オプション
  • 広帯域制御ループ、ならびにオプションの高速繰り返しパルシング
  • 業界最高のアーク管理
  • 各種規則に適合

資料ダウンロード

Apex® RF Generators and Power Delivery Systems brochure
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
Advanced Energy RF Calibration Process (2002) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Arcing Problems Encountered During Sputter Deposition of Aluminum (2000) white paper
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprint
March 26, 2008 - Advances in Radio Frequency Plasma Power Delivery Systems presentation
RF Power Fundamentals Course data sheet
AE Global Services brochure


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